蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。
一、產(chǎn)品名稱概述:蠕蟲膨脹石墨研磨分散機,膨脹石墨烯高剪切設備,超高速剪切剝離機,管線式在線研磨分散機
二、希德機械高剪切分散優(yōu)勢
SID研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
高剪切分散機的線速度達51M/S,由3級可調(diào)間隙的錐形定子和4級高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級上的凹槽一級比一級精細,深度,方向的不同增加了流體的揣流。當物料經(jīng)過的時候,形成強有力的擠壓、剪切、乳化、粉碎、混合、分散均質(zhì)及研磨作用。從而得到精細超微粒乳化研磨的較高效益。錐形定子外圍、出料腔體及密封件部位有循環(huán)水冷卻,可根據(jù)用戶的特殊要求提供多功能的可空轉(zhuǎn)式運作。石墨烯研磨分散機結(jié)合乳化機與膠體磨的特長,具有吸、消泡能力。使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
三、石墨烯分散難題
在石墨烯應用的研究中,一個重要的問題就是如何實現(xiàn)其可控功能化。結(jié)構(gòu)完整的石墨烯是由不含任何不穩(wěn)定鍵的碳六元環(huán)組合而成,化學穩(wěn)定性高,其表面呈惰性狀態(tài),與其他介質(zhì)(如溶劑等)的相互作用較弱,并且石墨烯片與片之間有較強范德華力。 容易產(chǎn)生聚集,使其難溶于水及常用的有機溶劑,這給石墨烯的進一步研究和應用造成了很大的困難。為了充分發(fā)揮其優(yōu)良性質(zhì),并改善其成型加工性(如提高溶解性,在基體中的分散性等),必須對石墨烯進行有效的功能化。 通過引入特定的官能團,還可以賦予石墨烯新的性質(zhì),進一步拓展其應用領域。功能化是實現(xiàn)石墨烯分散,溶解和成型加工的zui重要手段。 如果說石墨烯二維晶體的發(fā)現(xiàn)為凝聚態(tài)物理研究開啟了激動人心的一頁, 那么功能化石墨烯及其應用將為化學和材料領域提供新的橋梁和手段。
四、液相剪切剝離過程
液相直接剝離法制備,石液相直接剝離法制備墨烯,,液相直接剝離法,石墨烯研磨分散機,液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機,SID液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機是是利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。
五、蠕蟲膨脹石墨研磨分散機
太倉希德機械技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來XM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機"、“研磨均質(zhì)機"、“研磨乳化機"。
XMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |