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硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)
硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機(jī) ,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
1、因目前實(shí)驗(yàn)設(shè)備轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào),是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑
2、該機(jī)粉碎以上附加劑,會(huì)不會(huì)造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損
3、該機(jī)能否實(shí)現(xiàn)細(xì)碎至通過顆粒直徑****小于50um。其中D95
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機(jī)
*終產(chǎn)品: 混懸液
用途: 混懸液
工藝要求: 與藥物接觸部分為
原材料: 硫酸頭孢喹肟
液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇
固體(%): 硫酸頭孢喹肟
密度(kg/m溫度(℃): 35
將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機(jī)進(jìn)行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號(hào)表供參考:
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |